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MARKT- UND MESSEBERICHTE --- Messeberichte --- Fraunhofer IWS Dresden präsentiert photokatalytisch aktive Schichten für großflächige Anwendungen auf der HANNOVER MESSE 2009 Das Fraunhofer IWS hat ein neues Verfahren zur chemischen Dampfphasenabscheidung (AP-CVD) von Oxid-Schichten bei Atmosphärendruck und niedriger Temperatur entwickelt. Es ermöglicht eine konti- nuierliche Großflächenbeschichtung von Bändern ebenso wie von ebenen Blechen oder Platten mit photokatalytisch aktiven Titandioxidschichten. Die Schichten können homogen in Schichtdicken zwi- schen 30 und 1200 nm aufgetragen werden. Vor allem durch die Herabsetzung der Substrattemperatur auf bis 100 °C sind photokatalytische und superhydrophile Eigenschaften nun auch auf temperatursen- sitiven Materialien wie Polymerfolien umsetzbar.  Hydrophil/hydrophob-strukturierte Oberfläche auf einem Edel- stahlblech Foto: Fraunhofer IWS Dresden Bei Titandioxidschichten (TiO2) ermöglicht der photokatalytische Effekt Antibeschlageigenschaften, Selbstreinigung oder hydrophob/hydrophil strukturierbare Oberflächen. Klassische Herstellungsverfahren solcher Schichten sind ther- mische CVD- oder Sol-Gel-Prozesse, die beide sehr hohe Substrattemperaturen (> 400 °C) für die Abscheidung bzw. Nachbehandlung der Schichten voraussetzen. Somit ist die Beschichtung temperatursensitiver Materialien mit diesen Methoden ausgeschlossen. Für die Erzeugung von photokatalytischen Titanoxidschichten mit Dicken > 10 µm bietet das Fraunhofer IWS das Verfahren des thermischen Spritzens an. Durch die Entwicklung spezieller Förder- und Injektionstechnik modifizier- ten die Forscher des Fraunhofer IWS das atmosphärische Plasmaspritzen (APS) und das Hochgeschwindigkeits- flammspritzen (HVOF) für die Verwendung von Suspensionen. Dabei kommen statt der üblichen Pulverkörnungen (5 – 45 µm) feindisperse und/oder nanoskalige Pulver (50 - 100 nm) in wässriger Lösung zur Anwendung.  Prozess des Nanosuspensionsspitzens von photokatalytischen Schichten Foto: Fraunhofer IWS Dresden Die Änderungen im Werkstoff und im Spritzprozess beeinflussen Mikrostruktur und Eigenschaften der gespritzten Schichten entscheidend. So liegt in den suspensionsgespritzten Schichten ein wesentlich höherer Anteil der photo- katalytisch aktiven Phase vor als in den aus konventionellen Pulvern hergestellten Schichten, was ebenso wie die feine Porosität zu verbesserten Schichtaktivitäten führt. Bei der Herstellung funktionaler Oberflächen spielt die Nanotechnologie eine zentrale Rolle. In Dresden, einem be- deutenden Standort der Nanotechnologie, arbeitet das Fraunhofer IWS mit Firmen und Forschungseinrichtungen im Innovationscluster »nano for production« zusammen, um nanotechnologische Entwicklungen aus dem Stadium der Grundlagenforschung an die Schwelle zur industriellen Einführung zu bringen. So werden im Rahmen des Innovations- clusters wesentliche Elemente der Nanoproduktionstechnik entwickelt, erprobt und für einen weiten Anwenderkreis zugänglich gemacht. Fraunhofer IMS präsentiert sich auf der HANNOVER MESSE 2009 auf dem Fraunhofer-Gemeinschaftsstand „Oberflächentechnik“ in Halle 6, Stand F48. Kontakt: Dr. Holger Althues Fraunhofer-Institut für Werkstoff- und Strahltechnik IWS Winterbergstr. 28 01277 Dresden Tel.: 0351 25 83 476 Fax: 0351 25 83 300 E-Mail: holger.althues@iws.fraunhofer.de www.iws.fraunhofer.de [zurück] |
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